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关 于7NM光刻机的知识大家了解吗？以下就是小编整理的关于7NM光刻机的介绍，希望可以给到大家一些参考，一起来了解下吧！
俄罗斯放狠话：自研7nm光刻机将于2028年问世！
为了解决技术被“卡脖子”的问题，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所（IPF RAS）正在紧锣密鼓地研发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外宣称“这套自行研发的光刻机将于2028年问世，不仅能够生产出7nm芯片，还可以击败ASML同类产品”。根据俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构的一份公文显示，该计划将在6年内分为三个阶段实现：第一阶段：首先要在2024年开发一台alpha机器，验证系统的全面可靠性。这一阶段的重点不在于其工作或解决的高速性，而在于所有系统的全面性。第二阶段：到了2026年，将利用Beta版本取代alpha技术，届时所有系统都将得到改进和优化，同时分辨率也将得到提升，生产力也将随之提高，许多操作都将实现机械自动化。这一阶段的重点是，要将其集成到实际的技术流程中，并通过“拉起”适合其他生产阶段的设备对其进行调试。第三阶段：到了2028年，将完成所有准备工作，并实现原型机生产，届时将为光刻机带来更强的光源、改进的定位和馈送系统，并使得这套光刻系统能够快速准确地工作。标签： 7NM光刻机
